廈門光刻膠   美國光刻膠

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• HF刻蝕液主要用于刻蝕二氧化硅等氧化物，但對金屬的刻蝕效果因金屬種類而異。其核心功能包括：

• ?金屬表面清洗?：去除金屬表面的氧化物和銹跡（如鋁、銅等）

• ?工藝輔助?：在電鍍和金屬加工中調節溶液pH值，促進金屬溶解（如鎳、鉻、鎢等

• ?局限性?：
  HF對屬的刻蝕速率較慢，通常需與其他酸混合使用以提升效果

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