廈門光刻膠   美國光刻膠

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• ZEP539A屬于ZEP系列正性電子束光刻膠，該系列以高靈敏度著稱，其曝光劑量范圍通常低于常規PMMA膠（約為PMMA的3-4倍）

• ?曝光劑量范圍?：
  雖未檢索到ZEP539A的具體數值，但同類ZEP產品（如ZEP520A）的典型曝光劑量為?50-150mJ/cm2?，靈敏度越高則所需劑量越小

• ?分辨率與靈敏度平衡?：
  高靈敏度可能犧牲分辨率，需通過優化顯影條件（如顯影液配比、時間）和后烘溫度（建議90-120℃）來平衡兩者關系

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