廈門光刻膠 美國光刻膠
LOL 2000屬于?電子束光刻膠?，通過電子束曝光實現高分辨率圖形轉移，具有?高深寬比?特性，光刻后能形成?陡直度?的側壁結構（基本垂直于襯底表面），適用于納米級精密加工
?分辨率?：支持?130nm-300nm?分辨率，適配?0.5μm線寬?的雙層膠工藝
?工藝兼容性?：適用于?Lift-off工藝?，需搭配上層光刻膠使用，顯影液推薦?MIBK
?顯影液?：需使用顯影液（如MIBK
混合溶液），顯影時間通常為20-60秒
?存儲要求?：需?低溫保存?（≤20℃），保質期一般為6個月
?配套工藝?：可能需配合增粘劑或稀釋液使用，具體參數需參考廠商技術文檔
半導體制造中的高分辨率圖形轉移（如納米級電路、MEMS器件）
科研領域的物理研究、量子器件開發
