廈門光刻膠   美國光刻膠

• ?高潔凈度?：能有效去除光刻膠殘留，確保后續(xù)工藝的潔凈度

• ?基材兼容性?：對玻璃等基材的刻蝕速率極低，保護基材不受損傷

• ?溶解性能?：對多種類型光刻膠(包括UV cure/Heat cure OC, PS等)具有良好溶解性

• ?工藝適用性?：特別適用于制程返工(返工剝離液)和晶圓級封裝(WLP)工藝
  

1. ?化學溶解機制?：通過特定化學成分與光刻膠發(fā)生化學反應，使其溶解或溶脹而脫離基材表面

2. ?表面活性劑系統(tǒng)?：可能含有特殊表面活性劑成分，降低液體表面張力，增強滲透和去污能力

3. ?緩蝕保護?：配方中可能包含緩蝕劑，減少對金屬表面的腐蝕，延長溶液使用壽命
   

4. ?多抗蝕劑兼容?：可對應RGB、BM、UV cure/Heat cure OC、PS等多種抗蝕劑類型

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