廈門光刻膠 美國光刻膠
AZ6112屬于?紫外光刻膠?，專為納米壓印工藝設計，具有高深寬比特性，光刻后能形成陡直度接近垂直的圖形結構，適用于圖形轉移
?分辨率?：支持亞微米級圖形（≤1μm線寬），顯影窗口寬，單次顯影即可完成圖形轉移
?抗刻蝕性?：對氧化硅、金屬層（如鋁、銅）具有良好保護作用，適配蒸鍍或濺射工藝
?底切控制?：可通過調整曝光劑量形成45°-70°的底切角度，優化剝離效果
?顯影液?：推薦使用?2.38% TMAH溶液?，顯影時間通常為20-60秒
?存儲條件?：需避光、低溫（≤20℃）保存，保質期6個月
?安全提示?：避免使用氧等離子去膠機，可能引發金屬氧化
金屬電極圖形化（如MEMS器件中的金/鉑電極）
半導體集成電路中微小線寬（≤1μm）的剝離工藝
美國皮脂灰塵皮脂皮脂乳劑
11000元
產品名：美國進口,灰塵皮脂,人工皮脂,皮脂乳劑
美國皮脂SYNTHEICSEBUM人工皮脂
8500元
產品名：美國進口,人工皮脂,sebum
美國光刻膠AR300-80new增粘劑電子束光刻膠
面議
產品名：光刻膠,美國光刻膠
美國光刻膠光刻膠NR5-8000半導體制造用
面議
產品名：美國光刻膠,光刻膠
美國光刻膠PMGISF系列特種環氧樹脂光刻膠
面議
產品名：美國光刻膠,光刻膠
美國光刻膠ADP增粘劑光刻膠配套試劑
面議
產品名：光刻膠,美國光刻膠
美國光刻膠DOWBCB3022-46光刻膠
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產品名：光刻膠,美國光刻膠
美國光刻膠去膠液光刻膠除膠液
面議
產品名：美國光刻膠,光刻膠