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南通如東渦旋高真空泵回收南通如東長晶爐回收

更新時(shí)間:2025-09-11 [舉報(bào)]
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排氣筒與排氣口相通。上盤的幾個(gè)圓孔是除塵區(qū)域和排氣區(qū)域通道。含塵氣流未從上盤12 個(gè)圓孔排出去之前,實(shí)際的氣流運(yùn)動是很復(fù)雜的。除切向和軸向運(yùn)動外還有徑向運(yùn)動。這樣含塵氣流會反復(fù)經(jīng)過金屬網(wǎng)(支撐內(nèi)、外層金屬網(wǎng)的金屬桿相互錯(cuò)列,很明顯能夠增加氣流穿過金屬網(wǎng)的次數(shù))。前文已詳細(xì)論過除塵機(jī)理,很容易看出慣性碰撞、接觸阻留、篩濾作用、擴(kuò)散在這時(shí)將成為除塵的主要作用力。塵粒與氣流分離界面是內(nèi)、外兩層金屬網(wǎng)(包括上盤在內(nèi))。
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提拉式單晶爐技術(shù)參數(shù)1、電源電壓:380VAC±5%2、電源頻率:50HZ 3、電源相數(shù):3相3線制4、變壓器容量:190KVA5、加熱器加熱功率:160KW6、加熱溫度:1600℃7、加熱器加熱電壓:60V8、冷爐極限真空度:<a9、晶體直徑:¢6〞~¢8〞10、熔料量 :90Kg11、主爐室尺寸:φ900×1250mm上爐室尺寸:φ900×900mm下爐室尺寸:φ900×350mm12、翻板閥通徑:φ280mm13、封頭爐蓋高度:410mm14、副爐室尺寸:φ280×250015、籽晶轉(zhuǎn)速范圍:1~40rpm16、籽晶拉速范圍:0.2~8mm/min17、籽晶快速:≥350mm/min18、籽晶在爐內(nèi)有效行程:3500mm19、籽晶在副室內(nèi)有效行程:2100mm20、坩堝升速范圍:0.02~1mm/min21、坩堝快速:≥100mm/min22、坩堝在爐內(nèi)有效行程:400mm23、坩堝轉(zhuǎn)速范圍:1~30rpm24、兩個(gè)電極孔孔距:480mm 25、耗水量:25m3/h26、主機(jī)占地面積:2500x2000mm27、主機(jī)高度:6800mm28、主機(jī)重量:約7500Kg分子泵回收,真空泵回收,真空流量計(jì)回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1 引 言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長開始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動是靠驅(qū)動電機(jī)通過減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動 ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動。在實(shí)際單晶爐中 ,對提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2~ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無級可調(diào) ,線性精度大于± 2 %

標(biāo)簽:長晶爐回收
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