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　真空技術在冶金、化工、輕工、食品、醫藥等領域得到了十分廣泛的應用，然而在這些領域大都存在塵埃對真空系統的危害問題。為保護真空系統或真空泵不受粉塵和固體顆粒污染和損壞，管路中需配置真空除塵器和真空過濾器。它們可保護真空閥門不被阻塞，避免閥板關閉不嚴造成漏氣，保護測量壓力的真空規管不受污損，防止泵受損而工作失常等，對真空設備的凈化和平穩、持續工作均很重要。除塵機理及過程從氣體中捕集分離粒子的除塵機理，主要有以下幾個方面:、重力氣流中的塵粒可以依靠重力自然沉降，從氣流中進行分離。由于塵粒的沉降速度一般較小，這個機理只適用于粗大的塵粒、離心力利用機械力來捕集分離含塵氣流中的粉塵，離心力除塵裝置是其中有效的除塵裝置。它對粒徑較小塵粒的分離捕集非常有效。含塵氣流作圓周運動時，

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專利文獻CN1205362C公開了 一種直拉硅單晶爐熱場的氣流控制方 法及裝置，其包括在單晶爐晶體生長室內的石墨加熱器和保溫筒間裝有密 封導氣裝置，使含有一氧化硅的氣體的氣流經密封導氣裝置的導氣管 及排氣口，在真空泵的作用下，排出爐外。密封導氣管裝置由導氣管、底 座、密封環、排氣口所組成，安裝在石墨加熱器和保溫筒之間。上述現有技術的不足之處在于單晶爐的坩堝支持器下方的混合氣體 不能有效的排出，從而使混合氣體中的一氧化硅對加熱器和坩堝進行腐蝕， 影響單晶爐的使用壽命。且其向爐內充入時的充氣氣壓在1. 3xi0a 以上，導致其流量較大，故而消耗量大，生產成本較高。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐真空系統的除塵技術/單晶爐是單晶體生長設備。單晶體生長要求在真空和惰性氣體中進行。真空裝置應能保爐體內熱真空度達5×1024mm 柱以上。如果使用惰性氣體作保護氣氛，爐體上、下都設有進出氣的氣口。生長單晶體時，抽真空及真空裝置注入惰性氣體后都需配備除塵裝置。西安理工大學工廠生產的混合式除塵器較好地解決了這一問題。本廠單晶爐系列：TDR262A (B)、TDR280、TDR270A 等多種爐型近百臺產品都使用這種除塵器。實踐明，它的主要優點是除塵，能適應不同抽氣階段真空度的要求，容塵量大。其具體結構見圖2、圖3。該除塵器綜合運用離心力、慣性碰撞、接觸阻留、擴散這幾種除塵機理。