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單晶硅生長爐原理簡介單晶硅生長爐的特點\單晶硅生長爐是通過直拉法生產單晶硅的制造設備。主要由主機、加熱電源和計算機控制系統三大部分組成。1、主機部分：機架，雙立柱\雙層水冷式結構爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉機構\坩堝提升及旋轉機構\系統\真空系統及自動爐壓檢測控制\水冷系統及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進口IG及超快恢復二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構成新一代高頻開關電源。采用移相全橋軟開關（ZVS）及CPU控制技術，提高了電能轉換效率，不需要功率因數補償裝置。3、計算機控制系統：采用PLC和上位工業平板電腦PC機，配備大屏幕觸摸式HMI人機界面、高像素CCD測徑 ADC系統和具有知識產權的“全自動Cz法晶體生長SCADA監控系統”，可實現從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩定—溶接—引晶—放肩—轉肩—等徑—收尾—停爐全過程自動控制。

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單晶爐提拉速度控制系統的設計與分析1　引　言半導體材料是半導體工業的基礎材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導體硅。當今 95%以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結晶生長開始時 ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產過程中 ,對晶體的提拉速度有十分嚴格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質量。對單晶硅生產過程中的提拉速度控制系統進行研究有實際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統在單晶硅生產中的作用。提拉桿的運動是靠驅動電機通過減速器 ,再由齒輪齒條機構帶動的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運動 ,而且當提拉負載增大引起線速度為零時 ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動。在實際單晶爐中 ,對提拉控制系統提出的主要技術指標是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內實現無級可調 ,線性精度大于± 2 %分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，其中,直接有效的方法是提高生產時效,增加單爐的月產能。筆者長期從事單晶生產工作,經調研與現場試驗,采用離線裝料技術不僅可以縮短運行周期、提高工作效率,而且可以確保坩堝內所裝硅料的潔凈度,具有較強的實用性和經濟推廣價值。1離線裝料的工作原理使用一個真空吸盤和一個特制的密封圈與裝滿多晶硅原生料的石英坩堝密封,