廈門光刻膠    美國光刻膠

顯影液NMD-3是一種光刻膠配套試劑，主要應用于半導體制造中的光刻工藝。

• ?主要成分?：2.38%(TMAH)水溶液
  

• ?包裝規格?：5升/瓶
  

• ?適用類型?：適用于正、負性光刻膠的顯影，特別針對薄膠(厚度小于5μm)的顯影
  

• ?儲存條件?：需低溫儲存，通常要求在冰箱中保存
  

顯影液NMD-3作為光刻工藝中的關鍵化學品，具有以下技術特點：

• ?顯影機制?：通過溶解曝光過程中光刻膠形成的可溶解區域，使光刻膠上的圖案清晰顯

• ?工藝影響?：顯影液的性能直接影響芯片的制程精度和良率，需要經受高溫、化學腐蝕等多種極端條件的考驗

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