Gemini 物鏡的設計結合了靜電場與磁場， 在提升光學性能的同時將它們對樣品的影 響降至低。因此，即便是要求苛刻的樣 品 —— 如磁性材料，也能進行成像。 在 Gemini 鏡筒設計理念中， Inlens 用二次 電子( SE ) 和背散射電子( BSE ) 探測器來 確保的信號檢測。

充分發揮 Gemini 2 型光學系統的性能優勢
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 處 在 于 配 備 的 Gemini 2 型光學系統主要運用了雙聚光鏡， 在獲得理想的小電子束斑同時可連續調節束 流。這使高電子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外， 您也可以在不同的成像模式之間進行無縫切 換或更改成像參數。此操作簡便快速，因為 在更改成像參數后無需進行校準，而且經調 校的掃描電鏡可以保持穩定地工作。

Gemini 3 型鏡筒介紹
Gemini 3 型鏡筒是專為表面靈敏成像領域 的苛刻任務而設計，它確保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作條件下都能達到高分 辨率。它由兩個協同工作的組件組成，即 Nano-twin 物鏡和智能自動光路調節—— 它 們組成一個全新的電子光學引擎。 BSE 的優 勢也可以為您提供良好的圖像襯度，讓您可 以從樣品中提取出盡可能多的信息。

? 通過 Nano-twin 物鏡實現低電壓下的優 化高分辨率
? 通過新的大視野概覽模式實現樣品導航和 高分辨率成像之間的無縫過渡
? 通過新的自動聚焦功能和新的快速鏡筒對 中算法實現高速優化圖像質量。

智能自動光路調節優化了通過鏡筒的電子軌 跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高 的分辨率。它還引入了新的自動功能，在整 個放大倍數范圍內(從 1 倍到 2,000,000 倍) 實現無縫對準自由切換，并將觀察視野增 加了 10 倍，從而可以在單幅圖像中完整成 像 13 厘米的物體。GeminiSEM 560 保持了 市場上尺寸達 32k × 24k 的超大圖像存儲像素， 在大視野無畸變拼接成像方面優勢。

背散射電子產生于樣品表面之下，可提供 樣品材質成分的襯度信息。背散射電子通 常以與入射電子束成 15 度角的圓錐狀出 射， 被 Gemini 鏡筒電子束推進器吸入后射 到鏡筒內。由于二次電子( SE ) 與背散射 電子( BSE ) 具有不同的能量，它們會在電 子束推進器內產生不同軌跡。

大部分的背 散射電子能夠穿過 Inlens SE 探測器，并被 EsB 探測器收集。此外， Inlens EsB 探測器 還可有選擇地收集不同能量的背散射電子。 如果出射角大于 15 度， 則 BSE 無法進入鏡 筒，但會被 AsB (角度選擇背散射) 或可 抽插式 aBSD 探測器探測到。aBSD 探測器 能夠提供樣品的成分襯度、形貌和 3D 表面 信息。樣品室背散射電子探測器( BSD )和 掃描透射電子探測器可以在低加速電壓下 擁有更率，且能實現超速成像。

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■ 與蔡司電鏡可實現聯用, 實現樣品的多尺 度多維度研究;
■ 搭載第三方配件, 如冷熱臺, 拉伸臺, 實 現樣品原位 4D 分析;
■ 搭載 Airyscan 實現高分辨熒光成像;
■ 配置 ZEN Intellesis 軟件提供基于機器學習 的圖像分割解決方案,可用于鑒別復雜樣 品的不同相組織。