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常見問題
廈門光刻膠 美國光刻膠
?耐腐蝕性?:具有耐干腐蝕特性(同類產品ZEP547A參數參考)
?分辨率?:作為電子束膠通常可達納米級分辨率
?抗蝕刻性?:適用于后續刻蝕工藝
?旋涂條件?:根據同類產品推測,可能采用分段旋涂工藝(低速鋪展+高速成膜)
?顯影條件?:需使用顯影液,具體參數未明確
半導體制造中的電子束光刻工藝
微納結構制作
科研實驗中的納米級圖案化
2D材料集成器件制造
美國光刻膠刻蝕工藝負性光刻膠NR4-8000P半導體制造用
美國光刻膠ADP增粘劑電子束光刻膠用增附劑
美國光刻膠刻蝕工藝負性光刻膠NR9-3000P粘附性能好
美國光刻膠KMPR系列耐溶劑耐水型光刻膠
1年
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美國光刻膠SU-8去膠液RemoverPG除膠劑
價格面議
美國光刻膠BOE金屬蝕刻液規格款式
美國光刻膠LOL2000進口光刻膠及替代膠配套顯影增粘稀釋液
美國光刻膠DOWBCB4022-35光刻膠半導體表面活性劑
美國光刻膠AZ1500(20CP)試劑半導體光刻膠
美國光刻膠正性電子束光刻膠ZEP529A