廈門光刻膠  美國光刻膠

1. 
   

• 負性光敏特性，曝光區域發生交聯反應形成不溶性網狀結構

• 高深寬比特性，光刻后能達到非常好的陡直度

• 基本垂直于襯底表面，適合精細結構加工

2. ?工藝性能?：

• 需要配合HMDS增粘劑使用以提高附著力

• 適用于單步集成2D材料到器件的工藝

• 響應速度快，適合生產

3. ?配套化學品?：

• 增粘劑：HMDS

• 顯影液：AZ系列顯影劑