在AOT光催化水體滅菌技術中，起主要作用的是在反應過程中產生的羥基自由基·OH，羥基自由基具有強氧化性、高活性、非選擇性等特點，能夠迅速將微生物等有機物降解為CO2、H2O和無機鹽。
AOT光催化設備雙波段設計，可以產生游離電子及空穴，利用空穴的氧化和電子的還原能力，產生氧化能力的自由基（活性羥基、超氧根離子、-COOH、H2O2等），這些自由基可輕易破壞細菌的細胞，使細胞質流失，進而將細胞氧化，直接殺死細菌。而這種特殊的光觸媒材料只是催化反應，本身的性質在反應前后不會發生變化，也沒有任何損耗。
紫外線殺菌消毒是利用適當波長的紫外線能夠破壞微生物機體細胞中的DNA（脫氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子結構，造成生長性細胞死亡和（或）再生性細胞死亡，達到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術是基于現代防疫學、醫學和光動力學的基礎上，利用特殊設計的率、高強度和命的UVC波段紫外光照射流水，將水中各種細菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。
大多數紫外線裝置利用傳統的低壓紫外燈技術，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統和中壓高強度紫外燈系統，由于產生高強度的紫外線可能使燈管數量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質較差的出水也適用。
使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內照射。
(2)照射劑量和時間：不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同，用紫外線消毒時使用照射劑量達到殺滅目標微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細菌繁殖體時，應使照射劑量達到 10000 uW.s/CM2；殺滅細菌芽胞時應達到100000 uW.s/CM2；病毒對紫外線的抵抗力介于細菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細菌芽胞更強，有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2；在消毒的目標微生物不詳時，照射劑量不應低于100000 uW.s/CM2。
輻照劑量是所用紫外線燈在照射物品表面處的輻照強度和照射時間的乘積。因此，根據紫外線光源的輻照強度，可以計算出需要照射的時間。例如，用輻照強度為70 uW/CM2的紫外線表面消毒器近距離照射物品表面；選擇的輻照劑量是100000 uW.s/CM2；則需照射的時間是：
100000 uW.s/CM2 ÷70 uW/CM2=24分鐘。
