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美國光刻膠半導體蝕刻液規格款式

更新時間:2025-09-02 [舉報]

廈門光刻膠   美國光刻膠


  • ?硅蝕刻液?:主要用于減薄、打毛、多晶硅蝕刻、氧化硅蝕刻等工藝

  • ?金屬蝕刻液?:用于金屬鎢、鋁、銅、鈷、鎳、銀、金、鈦等結構層的蝕刻工藝

  • ?ITO蝕刻液?:用于蝕刻ITO膜層,常用于顯示面板等領域

  1. 江蘇尚純自動化技術有限公司開發了半導體蝕刻液自動化包裝裝置,可提高包裝質量和效率

  2. 包裝容器需、耐腐蝕且低溶出,確保存儲和運輸安全

  3. 電子級化學品純度需超過99%,雜質離子和金屬污染物含量控制在ppb甚至ppt級別

  4. 40%硝酸電子級MOS級具有純度和的濃度控制





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