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面議主要技術參數 產品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產品型號 WT10 產品品牌 躍遷 電源類型 全數控智能電源 輸入電壓： AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日 -
連續磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設備。該設備使用范圍廣，沉積速率快，可實現多層沉積薄膜 1.應用領域廣泛應用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領..11月27日
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300.00元鎳釩靶材名稱：鎳釩（NiV）靶材 Nickel Vanadium Target純度：99.9%，99.95%, 99.99%形狀：平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶 在集成電路的膜層中一般用金做導電層，但金與..12月13日
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400.00元貴重金屬價格按當日行情報價，下單前請咨詢客服我們生產的5N純金蒸發料檢測數據檢測項目檢測標準檢測結果Au (wt %)≥99.99999.999Ag≤ 2ppm12月13日
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EMI電鍍，EMI真空鍍，EMI鍍膜，EMI真空鍍膜，EMIE濺射鍍膜、EMI真空電鍍技術就是利用磁控濺射鍍膜及特殊復合的工藝在塑膠。五金、及其他基材上，鍍上一層銅、銀、鎳等導電涂層，具有良好的導..03月04日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設備轉讓雙門蒸發4靶濺射系統1.5米爐體 轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用02月19日
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轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用全不銹鋼爐體，設備直徑1400，高度1500mm采用全自動控制，全部02月19日
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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發新設..06月14日
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面議磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術，它涉及使用高能量的離子（通常是氬離子）轟擊作為靶材的涂層材料，使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測標準（部分）1、 T/GV..09月10日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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100000.00元倉庫大量多弧中頻鍍膜機 1.3×1.2米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400擴散泵，30KW偏壓，2對中頻，1個可移動平面磁控濺射金靶 1300米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400分子泵，30KW偏壓..07月02日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..08月15日
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KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部分金07月16日
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1180.00元鍍膜機械襯板清理的噴砂方式解析 在鍍膜機械的運行過程中，襯板會不斷積累各種雜質、沉積物以及氧化層等，這些物質會影響鍍膜的質量和襯板的使用壽命。噴砂清理作為一種且常用的方式，在鍍膜..09月10日
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945.00元碳化鎢靶材是一種由高純鎢和碳為原料構成的靶材，顏色為黑色六方，有金屬光澤，硬度與金剛石相近，為電、熱的良好導體，碳化鎢不溶于水、鹽酸和硫酸，易溶于硝酸-氫氟酸的混合酸中，純的碳化..12月17日
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1300.00元鉻是銀白色有光澤的金屬，純鉻有延展性，含雜質的鉻硬而脆。密度7.20g/cm3。可溶于強堿溶液。鉻具有很高的耐腐蝕性，在空氣中，即便是在赤熱的狀態下，氧化也很慢。不溶于水。鍍在金屬上可起..12月17日
黃頁88網提供2025最新真空濺射鍍膜價格行情，提供優質及時的真空濺射鍍膜圖片、多少錢等信息。批發市場價格表的產品報價來源于共2家真空濺射鍍膜批發廠家/公司提供的202764條信息匯總。
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