真空濺射鍍膜電源信息我要推廣到這里
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面議主要技術參數 產品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產品型號 WT10 產品品牌 躍遷 電源類型 全數控智能電源 輸入電壓: AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日
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連續磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設備。該設備使用范圍廣,沉積速率快,可實現多層沉積薄膜 1.應用領域廣泛應用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領..11月27日
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300.00元鎳釩靶材名稱:鎳釩(NiV)靶材 Nickel Vanadium Target純度:99.9%,99.95%, 99.99%形狀:平面靶,柱狀靶,電弧靶,異型靶 在集成電路的膜層中一般用金做導電層,但金與..12月13日
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400.00元貴重金屬價格按當日行情報價,下單前請咨詢客服我們生產的5N純金蒸發料檢測數據檢測項目檢測標準檢測結果Au (wt %)≥99.99999.999Ag≤ 2ppm12月13日
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EMI電鍍,EMI真空鍍,EMI鍍膜,EMI真空鍍膜,EMIE濺射鍍膜、EMI真空電鍍技術就是利用磁控濺射鍍膜及特殊復合的工藝在塑膠。五金、及其他基材上,鍍上一層銅、銀、鎳等導電涂層,具有良好的導..03月04日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度:99.99% 分子式:Al2O3 分子量:101.96 CAS號:1344-28-1 密度:4 熔點:2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用全不銹鋼爐體,設備直徑1400,高度1500mm采用全自動控制,全部02月19日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設備轉讓雙門蒸發4靶濺射系統1.5米爐體 轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用02月19日
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39800.00元鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積(PVD)系統的設計者和制造商,客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發新設..06月14日
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面議磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術,它涉及使用高能量的離子(通常是氬離子)轟擊作為靶材的涂層材料,使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測標準(部分)1、 T/GV..09月09日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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60000.00元WT60-60KW直流磁控濺射鍍膜電源 輸入電壓:AC 380V(土10%)三相四線制 輸出功率: 60KW 輸出電壓:負極性電壓200~800v‘,高電壓>1kv 輸出電流:75A 冷卻方式:水冷 外形尺寸:600*230*600m..02月06日
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100000.00元倉庫大量多弧中頻鍍膜機 1.3×1.2米多弧中頻機,雙層不銹鋼爐體,2臺400擴散泵,30KW偏壓,2對中頻,1個可移動平面磁控濺射金靶 1300米多弧中頻機,雙層不銹鋼爐體,2臺400分子泵,30KW偏壓..07月02日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發鍍膜顆粒材料,鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱:Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target,元素比例:Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..08月15日
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88.00元等離子鍍膜電源維修,真空鍍膜機射頻電源維修,AE電源維修,光學鍍膜電源維修,ITO鍍膜電源維修 射頻電源維修、對光伏企業生產設備如:刻蝕設備所用的國產中科院及中國微電子所研究制造的09月01日
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ADL電源維修GSW200/500鍍膜電源濺射電源維修GSC80 ADL電源維修鍍膜電源濺射電源GSC80專業維修GSC120北京 專業維修美國AE電源,MDX電源,ADL電源,Diamond電源等,歡迎來電咨詢! ADL電源..07月28日
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KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率,可對大部分金07月16日
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1180.00元鍍膜機械襯板清理的噴砂方式解析 在鍍膜機械的運行過程中,襯板會不斷積累各種雜質、沉積物以及氧化層等,這些物質會影響鍍膜的質量和襯板的使用壽命。噴砂清理作為一種且常用的方式,在鍍膜..09月09日
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