關鍵詞 |
軟硬適中氧化鋁拋光液,無錫氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液報價,懸浮性好氧化鋁拋光液 |
面向地區 |
全國 |
穩定劑在拋光液中起到穩定和調節pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩定性。同時，穩定劑還能調節拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。
在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：
1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類型，根據需要進行調配。
2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質量和穩定性，及時更換或補充添加。
優點：
1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。
2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。
3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。
4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。
5.無粉塵產生，關注環保和人體健康安全。
注意事項:
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。
●拋光液的拋光效率，無結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果。化學機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產生很大的影響。
目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩定性好等優點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
