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氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆粒可提供更細膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。
穩定劑在拋光液中起到穩定和調節pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩定性。同時，穩定劑還能調節拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。
在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：
1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類型，根據需要進行調配。
2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質量和穩定性，及時更換或補充添加。
氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結晶，減少清洗成本。
使用方法:
1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據使用方式調拋光機的轉速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調拋光機的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。
氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質。
