注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液，涉及半導(dǎo)體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過(guò)程為：①備料；②磨料預(yù)處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。

氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；
2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。

氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機(jī)殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨，很快就光亮如新，無(wú)一點(diǎn)擦痕。

當(dāng)我們使用了這種拋光液之后，它可以通過(guò)純粹的機(jī)械拋光快速地去除材料，達(dá)到不錯(cuò)的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過(guò)化學(xué)/機(jī)械的拋光方法與材料表面形成反應(yīng)層。雖然柔軟的硅膠去除反應(yīng)層也可以得到一個(gè)的表面，但是在工藝上無(wú)疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們?cè)谧鼋鹣鄷r(shí)，往往都是使用這種可以通過(guò)純粹機(jī)械拋光的拋光液。