關鍵詞 |
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面向地區 |
全國 |
氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆粒可提供更細膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。
注意事項:
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。
●拋光液的拋光效率，無結晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
