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離子鍍膜,一個精密的工藝過程,其核心是離子濺射鍍膜。對于導電靶,偏壓電源扮演了關鍵角色,采用直流電場的精密調控,確保陰極表面的電子被加速,進而轟擊氣體分子,引發電離現象。這個過程中,電子被電場驅動,形成雪崩效應,直至氣體被擊穿,形成穩定的電離電流,進而驅動離子加速,撞擊靶材,將原子釋放并沉積在樣品表面,形成所需涂層。
偏壓電源,就像熒光燈中的核心組件,它通過高頻轉換電路,以單極性脈沖方式輸出。電源電壓的精細調整通過改變高頻轉換電路的輸入電壓實現,穩壓性能高達1%。這種設計允許在工藝所需電壓的同時,通過調整脈沖寬度來控制工件的加熱效果,適用于各種涂層需求,從工具保護到裝飾美化。
真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩定的冷凍水,來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用
真空鍍膜加工過程中,真空鍍膜機作為主要設備,工作過程中有高頻電流過程,電導會在反復過程中產生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設備及時地進行冷卻,避免設備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產品不同進行溫度調節,并保持相對恒溫,反復鍍膜會造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩定電鍍液的溫度。在工業生產控溫中,根據真空鍍膜加工的實際需求,選用相應規格的冷水機設備來進行、穩定的溫度控制調節是經濟有效的解決方案。
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。
1)所需設備:CCZK-1350-OGS光學電子槍鍍膜設備
2)獲得膜層:多層化合物膜層,超硬防水膜層,防指紋膜層,彩色膜層
3)涂裝流程:玻璃產品的前處理清洗----烘箱烘干-----真空鍍膜----成品包裝
4)基本配置:
腔體結構:D1350MM*H1350MM 立式單開門
腔體材質:304不銹鋼
轉動方式:公自轉結合,穹頂行星式轉架
蒸發電源:SCR可控硅+大功率蒸發變壓器
蒸發阻源:3組
電 子 槍:E型電子槍,磁偏轉270°
坩 ? ?堝:可旋轉多孔位坩堝
今天給大家分享“耐高溫黑色真空鍍膜 膜層”這個主題是因為近遇到一個和我們日常生活息息相關的項目,我們浦元真空鍍膜主打裝飾性鍍膜,膜層在智能穿戴、3C配件、鐘表首飾等領域應用比較廣泛,所以這篇文章對上述領域的五金配件廠家會比較有參考意義。大家如果有需要耐高溫黑色真空鍍膜膜層需求的可以關注下。?
? ? ? ?這個項目源起品牌方想讓產品外觀顏色更加多元化,進而想在鍋柄、側耳和提手上使用真空鍍膜工藝,所以為這個廚具品牌代工的鍋具配件加工廠就找到我們。該鍋具配件要求黑色真空鍍膜膜層在260℃高溫下4小時不變色,對了客戶的色板我們進行打樣,結果次測試230℃的時候膜層就開始發彩。和品牌方溝通研討后,我們改了工藝,第二次便順利通過了高溫烘烤測試并得到了美國品牌方的認可。其實,一開始品牌方提這個要求的時候我還是覺得挺極端的,但是考慮到使用環境后,我覺得可以理解。
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅動蒸發源,通過PID控制循環驅動擋板,保持蒸發速率。只要將儀器與系統控制軟件相連接,它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫度較高時,它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中,很難阻止傳感器跌入這個敏感區域,從而對膜層造成重大誤差。
? ? 光學監控是高精密鍍膜的的監控方式,這是因為它可以更地控制膜層厚度(如果運用得當)。度的改進源于很多因素,但根本的原因是對光學厚度的監控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控系統,是采用間接測控,結合汪博士開發的光學監控軟件,有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差,提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。