廢電鍍液：
為避免電鍍、鈍化、退鍍等電鍍作業(yè)中常用的槽液變質(zhì)、有效成分比例失調(diào)等原因而影響鍍層或鈍化層的質(zhì)量，槽液需經(jīng)常補(bǔ)充更換。
廢棄的槽液重金屬離子濃度都很高，積累的雜質(zhì)也很多，不僅污染物的種類不同，而且主要污染物的濃度、其他金屬雜質(zhì)離子的濃度以及溶液介質(zhì)也都往往有較大的差異。
鍍件漂洗水：
漂洗電鍍槽。電鍍生產(chǎn)線包括電鍍槽和多級漂洗槽。通常使新水從的漂洗槽進(jìn)入，與電鍍部件成相反的方向流動(dòng)，經(jīng)過2～5段漂洗后在鄰近電鍍槽的漂洗槽排出，產(chǎn)生了大量漂洗廢水。
鍍件漂洗廢水是電鍍廢水重金屬污染的主要來源，此外還含有少量的有機(jī)物。漂洗廢水的排放量以及重金屬離子的種類與濃度隨鍍件的物理形狀、電鍍液的配方、漂洗方法以及電鍍操作管理水平等諸多因素而變。特別是漂洗工藝對廢水中重金屬的濃度影響很大。水量較大，濃度較低，經(jīng)常排放。
鍍后處理廢水：
分拋光、出光、鈍化、著色、干燥、封閉、去氫、清洗等工序。清洗附著液，優(yōu)化鍍層質(zhì)量。Cr（Ⅵ）、Cu2+、Ni2+等重金屬；H2SO4、HCl、NaOH、Na2CO3等酸堿物質(zhì)；甘油等有機(jī)物質(zhì)。

下面介紹一種用離子交換纖維進(jìn)行電鍍廢水處理方法，該離子交換纖維通過下述步驟制得：
取適量特定纖維緩慢加入到適量的有機(jī)醇中，并加入定量的胺基化試劑，攪拌狀態(tài)下反應(yīng)，產(chǎn)物用水洗滌、晾干,得到中間產(chǎn)物;向中間產(chǎn)物中加入適量有機(jī)醛、含氯類溶劑、水，常溫?cái)嚢瑁尤肓姿峄噭亓鞣磻?yīng)，結(jié)束后除去溶劑，依次用水、鹽酸清洗產(chǎn)物，用水洗至中性得到離子交換纖維產(chǎn)物。將所述電鍍廢水處理用離子交換纖維放置于離子交換器中，以一定流速通入電鍍廢水，吸附分離有效態(tài)重金屬及無機(jī)磷。本發(fā)明離子交換纖維制備方法簡單、快捷，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且通過吸附、交換可快速去除電鍍廢水中的重金屬，達(dá)到處理重金屬污染的目的。
具體步驟如下：
(1)胺基化反應(yīng)：取適量特定纖維緩慢加入到適量的有機(jī)醇中，并加入定量的胺基化試劑，攪拌狀態(tài)下于90-130℃反應(yīng)3-10h，產(chǎn)物用水洗滌、晾干，得到中間產(chǎn)物；
(2)磷酸化反應(yīng)：向中間產(chǎn)物中加入適量有機(jī)醛、含氯類溶劑、水，常溫?cái)嚢?-10min，加入磷酸化試劑，回流反應(yīng)1-6h，結(jié)束后除去溶劑，依次用水、1-5%鹽酸清洗產(chǎn)物，用水洗至中性得到離子交換纖維產(chǎn)物。

電鍍設(shè)備工藝要求
1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應(yīng)有良好的結(jié)合力。
2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。
3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。
4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)，如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。
5、電鍍時(shí)間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
6、環(huán)境溫度為-10℃～60℃。
7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。
9、相對濕度(RH)應(yīng)不大于95%。
10、原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。

電鍍技術(shù)又稱為電沉積,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。是在直流電場的作用下，在電解質(zhì)溶液（鍍液）中由陽極和陰極構(gòu)成回路，使溶液中的金屬離子沉積到陰極鍍件表面上的過程; 電流效率 ：用于沉積金屬的電量占總電量的比稱為電鍍的電流效率。
分散能力：鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面布均勻的能力。
合金電鍍：兩種或兩種以上金屬離子在陰極上共沉積形成均勻細(xì)致鍍層的過程叫做合金電鍍（一般而言其小組分應(yīng)大于1%）。
整平能力：整平能力（即微觀分散能力）是指在金屬表面上形成鍍層時(shí)，鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表面更平滑的能力。它表達(dá)了基體金屬的粗糙度比較小，波穴的深度小于0.5mm，波峰與波谷的距離很小的表面上鍍層分布的均勻性。
針孔或麻點(diǎn)：氫氣呈氣泡形式粘附在陰極表面上，阻止金屬在這些部位沉積，它只能沉積在氣泡的周圍，如果氫氣泡在整個(gè)電鍍過程中一直停留在陰極表面，則鍍好的鍍層就會(huì)有空洞或貫通的縫隙；若氫氣泡在電鍍過程中粘附得不牢固，而是間歇交替地逸出和粘附，那么這些部位將形成淺坑或點(diǎn)穴，在電鍍工業(yè)中通常稱它為針孔或麻點(diǎn)。
鼓泡：電鍍以后，當(dāng)周圍介質(zhì)的溫度升高時(shí)，聚集在基體金屬內(nèi)的吸附氫會(huì)膨脹而使鍍層產(chǎn)生小鼓泡，嚴(yán)重地影響著鍍層的質(zhì)量。這種現(xiàn)象在電鍍鋅、鎘、鉛等金屬時(shí)尤為明顯。
覆蓋能力：覆蓋能力（或深鍍能力）也是鍍液的一個(gè)重要性能指標(biāo)，是指在一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面全部覆蓋的能力，即在特定條件下于凹槽或深孔中沉積金屬鍍層的能力，它是指鍍層在零件布的完整程度。
氫脆：氫離子在陰極還原后，一部分形成氫氣逸出，一部分以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬（尤其是高強(qiáng)度金屬材料）及鍍層中，使基體金屬及鍍層的韌性下降而變脆，這種現(xiàn)象叫做“氫脆”。

近年來，媒體不斷曝光全國各地環(huán)境污染現(xiàn)狀，尤其是工業(yè)污染。而在電鍍行業(yè)方面，在化學(xué)鍍膜工藝中會(huì)產(chǎn)生大量的污水和重金屬污染、固體廢物、酸性氣體等，造成嚴(yán)重的環(huán)境污染，這就驅(qū)使綠色產(chǎn)業(yè)的萌芽與發(fā)展，環(huán)保電鍍應(yīng)運(yùn)而生。

高頻電鍍設(shè)備是一種非常昂貴的設(shè)備，高頻電鍍設(shè)備的分類方法主要從滑環(huán)原理方面來分類的，從電鍍原理可知，電鍍電源一定是直流電源或脈沖電源。各類鍍槽對電源的要求也不太相同，電鍍時(shí)滑環(huán)的電流、電壓的應(yīng)控制在一定的誤差范圍內(nèi)。
水電鍍工藝是指在電鍍流程中需要對電鍍鍍件進(jìn)行漂洗工序的電鍍類型。電鍍電源主要是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設(shè)備。在晶閘管整流器中主要應(yīng)用“整流”技術(shù)，在高頻開關(guān)電源中既應(yīng)用“整流”技術(shù)又應(yīng)用“逆變”技術(shù)。