發黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質過多，一般純度應在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標，都要達到10—7倍Pa。（不準確）。涂敷物品的清洗不，表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理，溫度過高或過低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調節蒸發源的溫度，不能太低或太高。如果電子束蒸發，電子束的轟擊位置也應該調整。

真空鍍膜加工中冷卻設備需要提供智能、穩定的冷凍水，來確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定，所以會選擇使用水冷式冷水機來作為真空鍍膜加工冷卻設備。

一 真空鍍膜加工中冷卻設備冷水機的作用

真空鍍膜加工過程中，真空鍍膜機作為主要設備，工作過程中有高頻電流過程，電導會在反復過程中產生大量熱能并且集聚在一起，需要冷卻設備及時地進行冷卻，避免設備部件損壞，影響使用壽命；另外，真空鍍膜電鍍液需要根據電鍍產品不同進行溫度調節，并保持相對恒溫，反復鍍膜會造成鍍液溫度升高，同樣需要冷卻設備來準確地控制和穩定電鍍液的溫度。在工業生產控溫中，根據真空鍍膜加工的實際需求，選用相應規格的冷水機設備來進行、穩定的溫度控制調節是經濟有效的解決方案。

真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？這個問題不能一概而論，要根據您的具體情況進行分析。這里簡單介紹一下真空蒸鍍金屬薄膜的特點，供您參考。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產速度可高達450m/min。（2）具有優良的耐折性和良好的韌性，很少出現針孔和裂口，無揉曲龜裂現象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有的金屬光澤，光反射率達到97%；且可以通過涂料

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

1）所需設備：CCZK-1850SFL連續式磁控鍍膜流水線
　　2) 獲得膜層：一層或多層金屬，合金或金屬化合物膜層
　　3）涂裝流程： 玻璃產品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線（如果需要）---包裝成品
　　4）基本配置：
　　1.腔體結構：采用的臥式連續磁控鍍膜流水線，配備前后粗抽室，前后過渡室，前后精抽室，前后緩沖室，彩鍍室。
　　2.腔體材質：碳鋼
　　3.靶材設計：采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
　　4.電源配置：配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
　　5.電氣控制：生產線采用PLC全過程控制，配備工業計算機人機交互系統，快速的節拍設計。
　　6.人機對話：控制系統能實現人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
　　7.傳動系統：滾軸傳動，變頻可調
　　8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
　　9. 生產線安采用了的插板閥進行腔室隔斷，可以實現有效隔斷，穩定工藝氣體。
　　10.生產線采用了均勻進氣管結構設計，氣流注入均勻平緩；
　　11.泵抽系統：擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
　　5）需求配套設施：

現場實際運行證明丹佛斯FC302驅動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費。控制系統調試和參數設置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅動異步電機，又能驅動同步電機，系統升級時只需簡單地更換電機即可。