edi純水設(shè)備是利用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)加工較為穩(wěn)定超純水系統(tǒng)。那么問題來了，為何在生產(chǎn)加工超純水系統(tǒng)方面，edi機械設(shè)備越來越受到大家的喜愛而混床機械設(shè)備卻逐漸落伍了呢？

edi機械設(shè)備也被稱為不斷電除鹽(edi，electrodeionization或cdi，continuouselectrodeionization)，就是將二種已經(jīng)成熟的污水處理技術(shù)性--電滲析法和離子交換緊密聯(lián)系，溶解的鹽在環(huán)保型環(huán)境下被清除，在運行過程中無需分析化學edi超純水設(shè)備，并且其水流量電阻器較混床水流量還要高，能夠達到10-18.2mω.cm，做到在我國電子元器件級水i級標準。edi對roro反滲透出水電導率并沒太高的要求，進水電導率在4-30us∕cm都能夠合格產(chǎn)水率。極有可能需增加變軟設(shè)備，去除水中的鈣、鋁離子。若電阻非常高時只需調(diào)節(jié) 運行電流的大小和加使用量(氧化鈉)尺寸。屬于環(huán)保型性，離子交換色譜不需要酸、堿分析化學edi超純水設(shè)備，節(jié)約大量酸、堿和清除飲用水，可以降低勞動生產(chǎn)率。更為關(guān)鍵的是無廢酸、廢堿液排出來，都屬于化學方程的水處理系統(tǒng)，它無需酸、堿的存放、處理及無生活污水處理排出來?！竞幽辖瞽h(huán)?？萍加邢薰尽浚?4/7/5）超純水設(shè)備廠家安裝【冬季注意保暖】）

實際上就目前而言，絕大多數(shù)半導體材料生產(chǎn)過程中都會用到超純水系統(tǒng)清理，各個部位產(chǎn)品工件跟水直接使用觸碰，未經(jīng)處理的水中的雜質(zhì)也會降低設(shè)備性能進而影響出產(chǎn)量。***生產(chǎn)中水的品質(zhì)是半導體制造的重要一步。大家傳統(tǒng)超純水系統(tǒng)生產(chǎn)工藝流程一般是采用陰離子樹脂交換設(shè)備，此項加工工藝有著一定的缺點，便是環(huán)氧樹脂使用過一段時間之后要進行再造，而隨著近幾年來膜分離設(shè)備的走向成熟有關(guān)工藝技術(shù)的發(fā)展，大家慢慢擺脫了前面一種逐漸接受新的反滲透工藝。整套設(shè)備出水電導率能夠達到0.5千歐~18.25千歐。