西門子EDI模塊維護。
根據用戶的數據和描述，制定初步的維護計劃。
2.EDI模塊到達工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認無誤后，將EDI模塊安裝在EDI測試機上運行，檢查其異常參數并進行記錄。
機器檢測和清洗，如有必要進行拆卸檢查，更換內部損壞的部件，包括板材、陽離子膜、樹脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機上，進行長達10小時的再生操作，并詳細記錄參數。

超純水在光學領域發揮著越來越重要的作用。超純水的水質純度已成為影響光學器件產品質量、產量和生產成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質，會影響電子管的質量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內壁上附著一層熒光物質，該熒光物質是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質，LCD電路將出現故障，影響LCD屏幕的質量。

　　6、在晶體管和集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經成為電子產品質量安全的重要設備。根據光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質，進一步改善水質，使出水水質滿足現場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數據監測、環境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統回收率，降低能耗和運行費用。

使用EDI超純水系統時有一定的規則，用戶需要遵守這些規則。，在使用設備時，不能立即進入工作狀態。操作前預熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統的維護和使用注意事項。

　　一、EDI超純水系統運行

　　設備在運行一段時間后可能會發熱。這是正常的，但在設備運行了一定時間后，有必要讓設備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統的工作時間為每天8小時，10小時可以，但使用一段時間后，用戶清潔設備以恢復受污染設備的原始性能。在恢復設備性能的同時，應盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統。