工業EDI去離子水設備是目前比較的電滲析和離子交換技術，與普通去離子水設備相比，不僅提高了導電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業的理想設備之一。
隨著這種純凈水設備的口感越來越好，EDI去離子水設備的應用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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很多EDI模塊的操作人員或者管理人員并不知道如何維護EDI，所以小編就給大家分享一些關于EDI模塊維護的要點，供大家在一定程度上自己檢查和糾正。
對于EDI模塊的維護，我們需要根據其故障現象選擇相應的維護方法。EDI設備的主要故障是出水量低、水質差。
針對這兩種故障，有不同的維修點，具體如下:
1. 江宇環保EDI模塊低產水量維護要點:
為了修復EDI模塊的低產水量，我們需要分析是否是由于內部污垢，閥門和開關狀態異常，管道或部件損壞，或其他原因造成的。
1. 干凈的EDI。
如果是由于EDI內部結垢導致出水量少，則需要清洗;，樹脂需要清洗，因為樹脂往往容易形成污垢;其次，對每個管道的管道進行清洗，以確保污垢被清除。
2. 調整閥門和開關狀態。
當閥門沒有調整到正確的位置時(特別是控制出水的閥門)，會導致產水量減少，而各部件的開關，特別是流量開關，如果設置不正確，會導致產水量減少。
由此引起的產水量變低，只需調整閥門和開關狀態即可。
3.
維修或更換部件。
如果管道或其他部件出現問題，例如泄漏，則需要進行維修;如果通過修理無法解決問題，則需要更換損壞嚴重的部件。
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離子交換樹脂的應用

1.羅門哈斯離子交換樹脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質離子，起到凈化水的作用。

2.羅門哈斯離子交換樹脂拋光樹脂一般用于超純水處理系統末端，來***系統出水水質能夠維持用水標準。一般出水水質都能達到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。

-LXM30Z運行參數及產水水質

典型膜堆性能
操作參數
回收率 90-95%
允許進水壓力上限 7bar（100psi）
允許進水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產水水質
產水電阻率 >16MQ.cm（見下面說明）
說明：實際性能可以用lonpure的IP-Pro設計軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進水條件

阻垢劑投加裝置報價

如何運行和維護阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩牢固。并檢查電源是否已打開。在投入使用分鐘，沒有噪音和運行平穩是正常的。

3、檢查計量泵的安裝是否平穩牢固。看看電源是否開著。

4、檢查管子，頭發部件等是否安裝正確。

超純水在光學領域發揮著越來越重要的作用。超純水的水質純度已成為影響光學器件產品質量、產量和生產成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質，會影響電子管的質量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內壁上附著一層熒光物質，該熒光物質是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質，LCD電路將出現故障，影響LCD屏幕的質量。

　　6、在晶體管和集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經成為電子產品質量安全的重要設備。根據光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質，進一步改善水質，使出水水質滿足現場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數據監測、環境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統回收率，降低能耗和運行費用。