軟化水設(shè)備多少錢一套， 河南全自動(dòng)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) ，河南軟化水設(shè)備廠 ，河南工業(yè)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) 河南純水軟化水系統(tǒng) 【河南江宇環(huán)保科技公司】
EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

羅門哈斯離子交換樹脂 主要型號(hào)

羅門哈斯拋光樹脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹脂1000NA、4000CL、4200CL等樹脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹脂是經(jīng)過后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進(jìn)水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計(jì)情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達(dá)到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個(gè)單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實(shí)已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。