西門子EDI模塊維護。
根據用戶的數據和描述，制定初步的維護計劃。
2.EDI模塊到達工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認無誤后，將EDI模塊安裝在EDI測試機上運行，檢查其異常參數并進行記錄。
機器檢測和清洗，如有必要進行拆卸檢查，更換內部損壞的部件，包括板材、陽離子膜、樹脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機上，進行長達10小時的再生操作，并詳細記錄參數。

工業EDI去離子水設備是目前比較的電滲析和離子交換技術，與普通去離子水設備相比，不僅提高了導電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業的理想設備之一。
隨著這種純凈水設備的口感越來越好，EDI去離子水設備的應用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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工業EDI去離子水設備。
維修注意事項。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設備運行情況；
3、設備的自潔環節至關重要，要定期檢查運行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監測反滲透主機運行時的壓力、流量、水質指標；
6、注意水質，如果水質太差，會導致設備損壞。

EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設備的核心部件，當EDI運行不穩定或者無法使用時，會造成拋光混床樹脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導致水質產出異常，從而影響生產工作。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點：

1、當模塊長期處于大電流、小流量的運行狀態時，運行溫度會增加并且不能及時散熱，將會導致兩極膜片受熱變形，導致進出水壓差增大，產水水量減少、水質下降。

2、當EDI模塊長期沒有保養或清洗，將會使得EDI內部膜片和通道結垢，進出水壓差增大，產水水質下降，電壓上升，電流調節異常，***終將導致模塊無法使用，影響工作進度。

3、當清洗、保養時使用不合適的藥劑,會使得模塊內部樹脂破損，導致進出水壓差增大，產水水量減少、水質下降。

4、在缺水缺水狀態加電，導致膜片和樹脂發熱碳化。

深圳超純環保股份有限公司有***維修技術人員可以對EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進行診斷并提供維修/再生服務，***EDI模塊恢復正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長使用時間。

離子交換樹脂的應用

1.羅門哈斯離子交換樹脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質離子，起到凈化水的作用。

2.羅門哈斯離子交換樹脂拋光樹脂一般用于超純水處理系統末端，來***系統出水水質能夠維持用水標準。一般出水水質都能達到18兆歐以上，以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。

IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規格的模塊，是西門子公司針對工業水處理打造的EDI模塊產品。針對工業應用而開發西門子工業型膜堆利用連續電去離子技術（CEDI）生產高純水，其產水水質等同甚至優于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統的產水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數量以及型號等參數，不同品牌，不同廠家生產的CEDI膜堆流量、運行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺CEDI模塊的流量，運行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應的EDI電源了。目前在國內，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對EDI電源的選型上還有疑問，

超純水在光學領域發揮著越來越重要的作用。超純水的水質純度已成為影響光學器件產品質量、產量和生產成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質，會影響電子管的質量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內壁上附著一層熒光物質，該熒光物質是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質，LCD電路將出現故障，影響LCD屏幕的質量。

　　6、在晶體管和集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經成為電子產品質量安全的重要設備。根據光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質，進一步改善水質，使出水水質滿足現場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數據監測、環境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統回收率，降低能耗和運行費用。