工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對(duì)水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來(lái)越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問(wèn)題？
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EDI模塊的維護(hù)主要是針對(duì)出水量下降、水質(zhì)惡化等問(wèn)題，是對(duì)EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過(guò)程中，EDI模塊可能因外部壓力過(guò)大或內(nèi)部故障而需要維修。
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EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

羅門哈斯離子交換樹(shù)脂 主要型號(hào)

羅門哈斯拋光樹(shù)脂AMBERJET UP6150、UP6040、MB20、IRN160，混床樹(shù)脂IR120NA、IR100NA、IRA402CL ，軟化樹(shù)脂1000NA、4000CL、4200CL等樹(shù)脂



羅門哈斯Amberjet UP6150和組成它的樹(shù)脂是經(jīng)過(guò)后處理及再生以***離子的***平衡泄漏。發(fā)貨的樹(shù)脂其有的再生型態(tài)H型和OH型。在進(jìn)水得到充分的處理及合理的混床設(shè)計(jì)情況下，Amberjet UP6150的出水電阻率能達(dá)到18M.cm，其二氧化硅系統(tǒng)中單靠一個(gè)單元不可能完全***水質(zhì)的純度。事實(shí)已經(jīng)證明Amberjet UP6150在超純水系統(tǒng)中有能力生產(chǎn)出高純度的水。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

EDI超純水設(shè)備的使用壽命與其使用方法密切相關(guān)，如果維護(hù)保養(yǎng)得當(dāng)?shù)脑挘鞑考⒊惺芟鄬?duì)較小的運(yùn)行壓力，因此它的性能更穩(wěn)定且使用的壽命更長(zhǎng)。那么在設(shè)備工作的期間，該如何長(zhǎng)期去維護(hù)保養(yǎng)呢？下面讓我們來(lái)認(rèn)識(shí)一下吧。

維護(hù)保養(yǎng)的方法
1. 如果沒(méi)有閱讀用戶手冊(cè)并接受相關(guān)的操作培訓(xùn)，請(qǐng)不要嘗試操作EDI超純水設(shè)備，若不按本手冊(cè)步驟操作，可能會(huì)對(duì)設(shè)備造成嚴(yán)重的傷害。
2. 隨意拆卸EDI或拆除定位螺栓和操作和使用不當(dāng)?shù)脑挘赡軐?dǎo)致嚴(yán)重的人身傷害和保修服務(wù)故障。
3. 當(dāng)需要在EDI超純水設(shè)備在附近工作時(shí)，請(qǐng)斷開(kāi)直流電源，以免觸電。操作過(guò)程中，用水取出所有熱量，檢查淡水進(jìn)水閥、濃水排放閥和極水排放閥的開(kāi)啟情況，否則會(huì)燃燒EDI膜塊，造成不可彌補(bǔ)的損壞。緩慢調(diào)節(jié)閥門，避免水錘損壞膜塊。
4. 日常維護(hù)是在系統(tǒng)維護(hù)的基礎(chǔ)上，用戶在使用設(shè)備時(shí)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化、制度化，并按照相關(guān)操作程序和工作計(jì)劃實(shí)施，這樣才能有效設(shè)備系統(tǒng)的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。
5. EDI純水設(shè)備在工作的過(guò)程中，設(shè)備的表面經(jīng)常吸收大量的微生物、顆粒物等雜質(zhì)。清洗方法是維護(hù)過(guò)程中重要的步驟，不僅能夠恢復(fù)設(shè)備的性能，還可以延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。實(shí)際使用過(guò)程中根據(jù)進(jìn)水情況可調(diào)整系統(tǒng)的運(yùn)行時(shí)間和清洗時(shí)間。