.更新完成后，將向客戶(hù)出具EDI組件維護(hù)報(bào)告和EDI組件損壞判斷報(bào)告，幫助業(yè)主更好地使用EDI組件，幫助維護(hù)其純水系統(tǒng)。
、維修完成后，重新測(cè)試，工廠測(cè)試合格后48小時(shí)再測(cè)試給客戶(hù)。
可提供清洗劑及完整的清洗保養(yǎng)方案。
edi超純水機(jī)
edi純化水設(shè)備哪個(gè)好
edi超純水設(shè)備方案
實(shí)驗(yàn)室edi超純水設(shè)備
edi超純水系統(tǒng)
edi純水設(shè)備工藝流程
edi制水設(shè)備
生產(chǎn)超純水的設(shè)備
超純水edi怎樣維護(hù)
edi超純水裝置廠家

軟化水設(shè)備多少錢(qián)一套， 河南全自動(dòng)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) ，河南軟化水設(shè)備廠 ，河南工業(yè)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) 河南純水軟化水系統(tǒng) 【河南江宇環(huán)保科技公司】
EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類(lèi)型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類(lèi)型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設(shè)備的核心部件，當(dāng)EDI運(yùn)行不穩(wěn)定或者無(wú)法使用時(shí)，會(huì)造成拋光混床樹(shù)脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導(dǎo)致水質(zhì)產(chǎn)出異常，從而影響生產(chǎn)工作。

離子交換樹(shù)脂的應(yīng)用

1.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂拋光樹(shù)脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來(lái)***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，以及對(duì)TOC、SIO2都有一定的控制能力。

-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明）
說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類(lèi)和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。