金剛石拋光液是利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產(chǎn)生劃傷，它主要用于蘭寶石襯底、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。單晶金剛石拋光液具有良好的切削力，加工成本相對較低，它被廣泛應(yīng)用于超硬材料的研磨拋光。納米金剛石拋光液是利用納米金剛石球形狀和細(xì)粒度粉體能達(dá)到的拋光效果，不僅具有良好的分散穩(wěn)定性，還能保持長時間不沉降，并且粉體在分散液中能不發(fā)生團(tuán)聚，它主要用于硬質(zhì)材料的拋光過程，可使被拋表面粗糙度低于0.2nm。

金剛石噴霧拋光劑是由金剛石微粉制成的液體拋光劑。金剛石噴霧拋光劑廣泛應(yīng)用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金及各類金屬的高光亮度拋光，用于金相試樣拋光時，更加凸顯其特的性，能夠使試樣在短時內(nèi)更真實地顯示其金相組織。將金剛石微粉制成液體狀態(tài)有利于以霧狀噴灑出的金剛石顆粒在拋光織物表面均勻分布，且對拋光布的濕潤性好。拋光不同的材料可選用不同粒度的拋光劑進(jìn)行拋光。

金剛石有多晶和單晶兩種，對于金相應(yīng)用，兩種都可以使用，但多晶金剛石的切削能力更強(qiáng)，是單晶的2-3倍，甚至更多。對于要求較高，為了獲得較好的制備結(jié)果，應(yīng)使用多晶金剛石。多晶金剛石隨著時間分解，連續(xù)產(chǎn)生很多小的磨粒邊緣，可提供非常高的材料去除率的同時僅產(chǎn)生很淺的劃痕。單晶金剛石隨著時間的推移會越來越圓，失去其磨削能力。

拋光冷卻潤滑液，對金相研磨拋光過程起到良好的冷卻和潤滑作用，同時還有防腐功能，可有效減少研磨拋光介質(zhì)顆粒對材料表面的損傷，并能提高拋光效果。 對于磨料顆粒極易嵌入到樣品表面的較軟的材料，使用拋光膏，同時對樣品施加的力值小一些，10N左右，磨盤轉(zhuǎn)數(shù)慢一點，可有效減少嵌入。

金剛石拋光劑所用的金剛石微粉多為人造金剛石，其由C原子構(gòu)成，其中的C原子都以共價鍵結(jié)合，原子排列的基本規(guī)律是每一個C原子的周圍都有4個按照正四面體分布的C原子。這些C原子交錯整齊地排列成四面體結(jié)構(gòu)，每個C原子都與其他4個C原子直接緊密連接，形成牢固的結(jié)晶體，因而特別堅硬（自然界中硬物質(zhì)）。其硬度可達(dá)莫氏硬度10級，顯微硬度比剛玉（即Al2O3）高150倍，具有的耐磨性，超過剛玉90倍。因此金剛石拋光劑可以用來拋光非常堅硬的材料如硬質(zhì)合金、陶瓷等，這是氧化鋁等拋光劑所不能及的。

在使用時，可通過噴霧頭或鶴嘴瓶將適量金剛石拋光液均勻噴灑在拋光布上，切勿用量太多。有些人盲目地認(rèn)為噴灑的拋光液越多則拋光越快，這是一種長久以來的誤解。實際上，隨著拋光液用量的增加，因為拋光液隔離了試樣拋光面和拋光布反而導(dǎo)致了拋光效率的下降，同時浪費拋光液，增加生產(chǎn)成本。切勿在同一張拋光布上混用不同粒度的拋光液，這將導(dǎo)致難以拋除的劃痕。對于一些需要查看真實孔隙率的試樣則需要用3μm的拋光液進(jìn)行較長時間的拋光才行。

金剛石拋光劑含有經(jīng)過精選的多晶金剛石和特殊的研磨介質(zhì)，用于各種金屬、陶瓷、符合材料及玻璃、寶石等的研磨和拋光，特別適用于金相研磨和拋光。另外金剛石拋光劑不含任何氟利昂，對環(huán)境無害，屬于環(huán)保產(chǎn)品。

金剛石拋光劑廣泛應(yīng)用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金及淬火鋼材的高光亮度研磨拋光。用于金相拋光時，更顯其的，經(jīng)研磨拋光后的試樣更真實地顯示其金相組織。不同的材料研磨拋光可選用不同粒度的產(chǎn)品。用于拋磨金相試樣中鑄鐵中石墨，鋼鐵中夾雜，鋼鐵中氧化層、滲碳層、涂層時能更真實地顯示其金相。

優(yōu)良的制備工藝使其具備分散的優(yōu)良性能。研磨液中的金剛石磨粒能較長時間處于均勻懸浮的狀態(tài)，具備優(yōu)良的分散性，且能很好的附著在磨拋載體(如磨盤，砂紙，拋光布)上，因其粘結(jié)性使磨拋設(shè)備即使在高速運轉(zhuǎn)中金剛石磨粒也不會流失，損耗極低。高的磨削率和去除率，與普通拋光液相比，在拋質(zhì)量等同情況下，用量節(jié)省30%，時間節(jié)省60%。