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常見問題
廈門光刻膠 美國光刻膠
度范圍?：2.1-6.3μm，適用于中等厚度光刻膠應用場景
?耐溫性能?：高可耐受180℃高溫，適合高溫工藝環境
?化學特性?：具有的耐腐蝕性和抗刻蝕能力，可作為干法刻蝕(RIE)和濕法刻蝕的掩模材料
?顯影特性?：在堿性水溶液下可顯影，形成高對比度圖形
美國光刻膠去膠液光刻膠除膠液潔凈度高不傷基材
美國光刻膠NK去膠液光刻膠清洗液潔凈度高
美國光刻膠電路板蝕刻液精密電子元器件用蝕刻速度快
美國光刻膠T1100去膠液快速去除光刻膠殘留快速剝離
1年
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13394069946
美國光刻膠干法刻蝕光刻膠NR77-1000PY耐化學性能穩定
價格面議
美國光刻膠半導體蝕刻液金膜銀膜刻蝕液
美國光刻膠DOWBCB3022-35紫外光刻膠半導體制造用
美國光刻膠AZ40XT(520CP)光阻劑
美國光刻膠496PMMA電子束膠光刻膠
美國光刻膠AZNLOF2020
