廈門光刻膠   美國光刻膠

1. 
   

• 電阻率需達(dá)到18.2 MΩ·cm（25℃），接近理論極限值，TOC（總有機(jī)碳）含量通常要求<5ppb?

• 電導(dǎo)率低于0.07μs/cm，遠(yuǎn)工業(yè)級（0.1-0.9μs/cm）和食品級（1-10μs/cm）標(biāo)準(zhǔn)?

2. ?

• 主流技術(shù)為反滲透（RO）-電去離子（EDI）聯(lián)用，結(jié)合紫外氧化和超濾，可去除99.99%以上離子及微生物?
  

• 離子交換樹脂法成本較低（20-30元/噸），但需頻繁再生；RO-EDI聯(lián)用技術(shù)雖成本高（35-45元/噸），但產(chǎn)水穩(wěn)定性更優(yōu)?

3. ?

• 用于晶圓清洗、蝕刻、光刻等步驟，占半導(dǎo)體總用水量的70%以上?

• 在14nm以下制程中，水質(zhì)直接影響芯片良率，金屬離子濃度需控制在ppt（萬億分之一）級別??
  

• 長三角地區(qū)因產(chǎn)業(yè)集群效應(yīng)，批量采購價(jià)可低至12-18元/噸；西北地區(qū)因運(yùn)輸成本可能溢價(jià)20%-30%?

• 微量有機(jī)物（TOC<5ppb）特殊規(guī)格產(chǎn)品價(jià)格可達(dá)80-120元/噸?

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