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單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設計與分析1 引 言半導體材料是半導體工業(yè)的基礎材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導體硅。當今 95%以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長開始時 ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對晶體的提拉速度有十分嚴格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進行研究有實際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運動是靠驅(qū)動電機通過減速器 ,再由齒輪齒條機構帶動的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運動 ,而且當提拉負載增大引起線速度為零時 ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動。在實際單晶爐中 ,對提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術指標是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實現(xiàn)無級可調(diào) ,線性精度大于± 2 %
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浮力提拉單晶爐提拉機構特性分析\一、引言 浮力提拉單晶爐(簡稱FTD)是利用浮力原理設計成的提拉式單晶爐帕,十多年來,用它先后生長成功了多種晶體〔2一5〕。這種爐子容易制造,成本低,易于推廣,目前國內(nèi)已有幾個廠家使用它生產(chǎn)泥酸鏗單晶。作為一種發(fā)明,FTD也受到肯定和重視。可是,FTD在問世以后,卻沒有進行深入探討。雖然FTD的設計有過幾次變化,但由于沒有掌握設計的則,致使FTD存在不同程度的提拉不均勻現(xiàn)象,嚴重地影響了它的推廣普及。為了改善它的提拉特性,我們研究了FTD浮力提拉原理,對多臺FTD作了分析對比,由此找出了提拉不均勻性產(chǎn)生的根源;明確了FTD提拉機構的設計要領。希望這-一卜作能夠推動FTD的發(fā)展.并有助于單晶的生長研究和生產(chǎn)。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的產(chǎn)生習C^l 奮幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。} 分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，采用三相橋式全控整流電路將交流電整流為直流電，例如據(jù)把一根金屬圓柱體放在有交變中頻電流的感應圈里，金屬圓柱體沒有與感應線圈直接接觸，通電線圈本身溫度已很低，可是圓柱體表面被加熱到發(fā)紅，甚熔化，而且這種發(fā)紅和熔化的速度只要調(diào)節(jié)頻率大小和電流的強弱能實現(xiàn)。
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