厚膜負(fù)性光刻膠
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厚膜負(fù)性光刻膠 – 刪減或添加工藝 | |
· 刪減&模型應(yīng)用
o 硅的深度刻蝕，類如博施工藝（波希法），玻璃及聚合體
o 硅的浮雕模型
· 添加應(yīng)用
o 用于倒轉(zhuǎn)（裝）芯片封裝，多芯片組件，微系統(tǒng)，感光芯片，薄膜磁頭的高縱橫比電鍍凸塊的制作
· 刪減模型的特性
o 的耐溫性適用于離子刻蝕及離子銑削制程
o 在深度刻蝕中比正膠有更多的選擇性
o 對小于380nm的波長有很好的靈敏度
· 添加應(yīng)用的特性
o 在電鍍制程中有很好的粘附性
o 電鍍后用FUTURREX的去膠液易于去除
o 對小于380nm的波長有很好的靈敏度
· 對生產(chǎn)率的影響
o 省去了溶劑顯影和溶劑漂洗制程步驟
· 優(yōu)勢
o 良好的線寬控制
o 側(cè)壁的垂直度不隨膜后（厚）而變
o 單次旋涂可達(dá)到100微米厚度
o 在厚膜應(yīng)用中有很好的分辨率
o 的光刻速度可以提高曝光效率
o 便于增加功率密度在離子刻蝕/離子銑削制程中，從而提高蝕刻效率
o 單個顯影液可適用于正性光刻膠和負(fù)性光刻膠
o 無需使用增粘劑
超薄4英寸雙面拋光硅片(50um)
面議
產(chǎn)品名：拋光硅片
硅片電子級
面議
產(chǎn)品名：硅片,硅片電子級
太赫茲區(qū)熔阻>20000歐姆厘米拋光硅片
面議
產(chǎn)品名：拋光硅片,太赫茲區(qū)熔阻,單晶硅片,硅片
美國MICRO-CHEMSU-820022015光刻膠
面議
產(chǎn)品名：2030光刻膠,SU-8 2002,2015光刻膠,SU-8 3000
Futurrex光刻膠NR2-P
面議
產(chǎn)品名：Futurrex光刻膠,NR2-P光刻膠,R9-P,NR2-P
美國Futurrex光刻膠NR71/NR9-PY
面議
產(chǎn)品名：美國Futurrex光刻膠,NR71/NR9-PY,NR9-P,NR9-PY
Futurrex光刻膠NR9-PY
面議
產(chǎn)品名：Futurrex-雙層光刻膠,Futurrex 光刻膠,NR9-PY,NR71-PY
美國Futurrex光刻膠PR1
面議
產(chǎn)品名：美國Futurrex光刻膠,PR1光刻膠,NR21-P,NR71-P