廈門光刻膠 美國光刻膠
?顯影液?：
未明確提及顯影液，但同類環氧樹脂光刻膠通常使用MIBK
混合溶液或2.38% TMAH溶液
?后烘條件?：
參考通用工藝，建議后烘溫度為90-120℃，時間1-2分鐘，需避免超過光刻膠熔點（約130-150℃）
?存儲要求?：
需避光、低溫（≤20℃）保存，保質期約6個月，開封后需防潮防震
半導體器件制造（如IC、MEMS）中的圖形化
電子束光刻掩模版制作及納米級科研器件開發
美國皮脂灰塵皮脂皮脂乳劑
11000元
產品名：美國進口,灰塵皮脂,人工皮脂,皮脂乳劑
美國皮脂SYNTHEICSEBUM人工皮脂
8500元
產品名：美國進口,人工皮脂,sebum
美國光刻膠JSRWPR5100濕法腐蝕光刻膠垂直性好耐高溫
面議
產品名：光刻膠,美國光刻膠
美國光刻膠精密電子蝕刻液適用于各種金屬
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產品名：光刻膠,美國光刻膠
美國光刻膠omnicoat光刻膠增粘劑使用簡單操作性好
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產品名：美國光刻膠,光刻膠
美國光刻膠DOWBCB3022-63干法刻蝕光刻膠
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產品名：美國光刻膠,光刻膠
美國光刻膠AR300-80new光刻膠增粘劑
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產品名：美國光刻膠,光刻膠
美國光刻膠半導體電子束膠PMMA950系列
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產品名：光刻膠,美國光刻膠