石英粉是用純石英(天然石英或熔融石英)經破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產方式,各種常規規格:100M,150M,200M,325M,400M,600M,1500M及2000M(M為目數)。另外也可按客戶要求加工異型規格,要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級,只分規格。因其具備白度高,無雜質、鐵量低等特點,故應用范圍廣。
應用范圍:
一、玻璃:平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品(玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等)、光學玻璃、玻璃纖維、玻璃儀器、導電玻璃、玻璃布及防射線特種玻璃等的主要原料。
二、陶瓷及耐火材料:瓷器的胚料和釉料,窯爐用高硅磚、普通硅磚以及碳化硅等的原料。
三、建筑:混凝土、膠凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能檢驗材料(即水泥標準砂)等
四、化工:硅化合物和水玻璃等的原料,硫酸塔的填充物,無定形二氧化硅微粉
五、機械:鑄造型砂的主要原料,研磨材料(噴砂、硬研磨紙、砂紙、砂布等)
六、電子:高純度金屬硅、通訊用光纖等
七、橡膠、塑料:填料(可提高耐磨性)
八、涂料:填料(可提高涂料的耐候性)。
九、冶金:硅金屬、硅鐵合金和硅鋁合金等的原料或添加劑、熔劑 。
十、航空、航天:其內在分子鏈結構、晶體形狀和晶格變化規律,使其具有的耐高溫、熱膨脹系數小、高度絕緣、耐腐蝕、壓電效應、諧振效應以及其特的光學特性。
常用包裝為25KG和50KG.
石英粉分干法和水法兩種生產方式:
1、干法生產石英粉,主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經過磕石機加工成較小石料,石料再經過粉碎機加工砂粒,然后經過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
2、水法生產石英粉,主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統等。
其工藝流程大致如下:石英石礦料經過磕石機加工成較小石料,石料再經過石碾碾壓成砂粒,碾壓時不停的加水,水帶著砂粒流入沉淀池內,再把沉淀池內的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒,然后再經過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
優良的自然石英,經由過程怪異的低溫處置工藝加工而構成的粉末,重鈣粉使其份子布局分列由有序分列轉為無序分列.其色白,純度較高、活動機能好、并具備如下機能:
一、精良的光學性子:方石英的折射率從石英的1.55降低到1.48,更靠近PE、PP及一些樹脂的折射率.夾雜后的樹脂呈通明狀,不粉飾顏料自己的色采,而用別的填料添補則會使顏料的色采變淺、失真.
二、反射率:方石英的詳細布局有助光反射,可代替玻璃微珠作反光油漆,既可加強防滑性,又可進步油漆的反光性.
三、白度,低密度、光彩亮光:方石英的白度達95%以上,在涂料、油漆中使用,可代替部門鈦白粉,低落配方本錢.
四、抗腐化,耐刻畫、耐擦洗、耐磨機能好.
五、不含有機物凈化,金屬含量極低:可加強涂料的抗紫內線本領,并具備精良的絕緣性、精良的電磁輻射性和低的介電常數.
六、精良的抗熱震性.方石英受熱220m240℃左右時,產生必定水平的熱收縮,恰好抵償環氧樹脂、石膏等在此溫度下固化反響時的緊縮,使澆注體不變形.
七、極低的熱收縮系數、抗積淀性好、抗腐化性好.
利用行業:電子質料、高功效環氧樹脂、緊密鍛造、電瓷、電子晶片打磨、拋光質料、珠寶行業、特種陶瓷質料、特種耐火質料、造紙、涂料油漆涂料、緊密模具、屏障質料行業,日用化工,粘合劑,塑料,PTC質料、航空、航天、齒科質料和硅橡膠等中填料,各種產業庇護涂料、木器、粉末涂料、油墨及其余功效性利用
石英粉、石英砂、硅微粉的分類如下:
普通石英砂(粉),精制石英砂,高純石英砂,熔融石英砂及硅微粉等等。
膠水填充料用的石英粉可以依照結晶與否,分成結晶型石英粉(CAS:14464-46-1)與非結晶型(不定型)石英粉(CAS:60676-86-0)。前者價格較低,導熱系數較高;后者熱膨脹系數較低,尺寸安定性較佳。結晶型石英粉大多是從天然的石英礦中開采獲得的;非結晶型(不定型)石英粉是將結晶型石英粉在高溫中融化,再快速降溫淬火所得到的,所以又稱為熔融型石英粉。這兩種石英粉又會因為形狀的不同而有不規則狀或者是球狀等種類。前者吸油量較大,具有抗龜裂特性;后者吸油量較低,能夠獲得很大的填充量。
不規則狀石英粉用顯微鏡來看其實呈現多角型,是將石英粉直接研磨的結果;球狀石英粉是將不規則狀石英粉置于接近融點的高溫,讓原來存在不平整的邊邊角角融化,然后再降溫冷卻,就可以得到球狀石英粉。
微硅粉的生產方法主要有:
,三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通入的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應,反應氣體經旋風分離除去雜質,再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態三氯氫硅冷凝成液體,經粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內,用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。
第二,用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%~98%,被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶,用酸除去雜質,得到純度為99.7%~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅,還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式,再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進行進一步的提純處理。
第三, 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA開式電弧爐,加熱到1900℃左右進行還原。
分類:
按級別劃分硅微粉可分為:普通硅微粉、電工級硅微粉、電子級硅微粉、熔融硅微粉、超細硅微粉、“球形”硅微粉。
用途劃分硅微粉可劃分為:油漆涂料用硅微粉、環氧地坪用硅微粉、橡膠用硅微粉、密封膠用硅微粉、.電子級和電工級塑封料用硅微粉、精密陶瓷用硅微粉
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