注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

當(dāng)我們使用了這種拋光液之后，它可以通過純粹的機(jī)械拋光快速地去除材料，達(dá)到不錯(cuò)的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過化學(xué)/機(jī)械的拋光方法與材料表面形成反應(yīng)層。雖然柔軟的硅膠去除反應(yīng)層也可以得到一個(gè)的表面，但是在工藝上無(wú)疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們?cè)谧鼋鹣鄷r(shí)，往往都是使用這種可以通過純粹機(jī)械拋光的拋光液。