氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑，廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過程中。它由氧化鋁微粒和穩(wěn)定劑組成，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。

在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進行調配。

2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質量和穩(wěn)定性，及時更換或補充添加。

優(yōu)點：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產生，關注環(huán)保和人體健康安全。

納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明色固含量的20%-25%。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該5-10納米的氧化鋁是經過原來粒徑稍大的納米氧化鋁經過層層深加工篩選出來的氧化鋁，具有明顯納米藍相，添加到各種丙烯酸樹脂，聚氨酯樹脂，環(huán)氧樹脂，三聚氰胺樹脂，硅丙乳液等樹脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以明顯提高樹脂的硬度，硬度可達6-8H甚至更高。完全透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，由于其納米粒徑相當細小，固無論是何種溶劑皆是透明的，同時可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果。化學機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產生很大的影響。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。