| f光刻膠 | 光刻膠型號 | 適用光譜 | 厚度范圍/um | 分辨率 | 適用工藝 |
| RN 218系列 | g/h/i-Line | 4-12um | 2um | lift off 厚膜負性光刻膠 | |
| RN 246系列 | g/h/i-Line | 4-12um | 2um | lift off 負性光刻膠 | |
| ma-N 400系列/1400系列 | g/h/i-Line | 4-12um | 0.5um | 負性光刻膠，可用于傳統光刻和lift off工藝,適用于高溫工藝 | |
AZ nLOF 2000系列 | i-line | 2-11um | 0.5um | lift off 負性光刻膠，耐特高溫；可用于RIE工藝 | |
LOR/PGMI | g/h/i-Line | 0.35-7 | 0.5um | 雙層膠工藝 | |
| LOL2000 | g/h/i-Line | 130nm-300nm | 0.5um | 雙層膠工藝 |
