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松江藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐回收 濾波柜回收快速到達(dá)采用了上述技術(shù)方案后，本發(fā)明具有以下有益效果：、取出晶棒后，將硅料加入加料坩堝，蓋上外部加料器的上蓋，將外部加料器真空抽到合適壓力值時(shí)打開旋閥，硅料落入外部化料器中并在外部化料器中被熔化，熔化后的硅料流入主爐室坩堝，當(dāng)外部化料器中的硅料加完后，再關(guān)閉旋閥，把外部加料器充常壓，打開外部加料器的上蓋繼續(xù)加料，如此循環(huán)，進(jìn)而完成外部加料、化料，本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)連續(xù)拉晶，選用合適的主爐室坩堝可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)拉制五六根晶棒，可大幅減少冷卻、拆爐、裝爐的時(shí)間，進(jìn)而提高生產(chǎn)效率；、藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長(zhǎng)晶爐回收，多晶長(zhǎng)晶爐回收，臥式長(zhǎng)晶爐回收，拉式單晶爐、收購(gòu)直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1　引　言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對(duì)晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對(duì)單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動(dòng)是靠驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動(dòng)的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動(dòng) ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動(dòng)。在實(shí)際單晶爐中 ,對(duì)提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無(wú)級(jí)可調(diào) ,線性精度大于± 2 %

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松江藍(lán)寶石長(zhǎng)晶爐回收 濾波柜回收快速到達(dá)　真空技術(shù)在冶金、化工、輕工、食品、醫(yī)藥等領(lǐng)域得到了十分廣泛的應(yīng)用，然而在這些領(lǐng)域大都存在塵埃對(duì)真空系統(tǒng)的危害問題。為保護(hù)真空系統(tǒng)或真空泵不受粉塵和固體顆粒污染和損壞，管路中需配置真空除塵器和真空過濾器。它們可保護(hù)真空閥門不被阻塞，避免閥板關(guān)閉不嚴(yán)造成漏氣，保護(hù)測(cè)量壓力的真空規(guī)管不受污損，防止泵受損而工作失常等，對(duì)真空設(shè)備的凈化和平穩(wěn)、持續(xù)工作均很重要。除塵機(jī)理及過程從氣體中捕集分離粒子的除塵機(jī)理，主要有以下幾個(gè)方面:、重力氣流中的塵粒可以依靠重力自然沉降，從氣流中進(jìn)行分離。由于塵粒的沉降速度一般較小，這個(gè)機(jī)理只適用于粗大的塵粒、離心力利用機(jī)械力來(lái)捕集分離含塵氣流中的粉塵，離心力除塵裝置是其中有效的除塵裝置。它對(duì)粒徑較小塵粒的分離捕集非常有效。含塵氣流作圓周運(yùn)動(dòng)時(shí)，