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一種實用的單晶爐提拉速度控制系統\前言半導體材料是半導體工業的基礎材料 ,在半導體材料中用量和用途廣的是半導體硅。當今 95 %以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路。生產集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結晶生長開始時 ,用低速提拉、生長過程均速提拉的辦法制成的。提拉速度的控制性能將直接影響到晶體的質量。當今 ,隨著 IT產業的迅速發展 ,單晶硅生產市場需求劇,研制一種滿足工藝要求、低成本的提拉速度控制系統具有重要的實際意義。藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，DL-78型單晶爐的熱場和減壓工藝\1前言集成電路生產的發展一方面不斷縮小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不斷擴大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應地，作為集成電路基礎材料的硅單晶生產也在不斷地提高其技術質量指標和增大單晶錠的直徑和長度，以滿足電路的要求和降低自身的生產成本。在國外市場上，硅晶體直徑大致每4～5年增長1時（25．4mm），相應地，生產投料重也由1公斤逐漸發展為3～5公斤、8～12公斤、15～劉公斤和朋～6O公廳等幾個等級。在這發展中，有兩個條件是相輔相成、共同進步的，這是單晶爐和拉晶工藝。

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結束語/在工業中使用除塵器收集灰塵已經有了上的歷史，但是，到目前為止，還沒有一種不論在什么條件下都能夠圓滿解決問題的除塵器。因此，要根據不同的具體情況選擇設計適用的除塵設備。對塵埃問題，世界各真空設備都有各種性能要求和規格的除塵器、過濾器供用戶選擇。國內還沒有生產性能規格的除塵器、過濾器的工廠，大都由用戶自行設計加工。設計人員掌握除塵技術的基本知識，考慮許多技術經濟因素才能滿足實際應用的要求。