氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑，廣泛應用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過程中。它由氧化鋁微粒和穩(wěn)定劑組成，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。

穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。

在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進行調(diào)配。

2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時更換或補充添加。

氧化鋁拋光液是一種以多晶氧化鋁為主，氧化鋁顆粒大小均勻，相比氧化硅拋光液加工效率提高約3-4倍，成本節(jié)約30-50%，加工流程縮短，且不會在工件表面上形成硅元素結(jié)晶，減少清洗成本。

注意事項:

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。