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單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術(shù)/單晶爐是單晶體生長(zhǎng)設(shè)備。單晶體生長(zhǎng)要求在真空和惰性氣體中進(jìn)行。真空裝置應(yīng)能保爐體內(nèi)熱真空度達(dá)5×1024mm 柱以上。如果使用惰性氣體作保護(hù)氣氛，爐體上、下都設(shè)有進(jìn)出氣的氣口。生長(zhǎng)單晶體時(shí)，抽真空及真空裝置注入惰性氣體后都需配備除塵裝置。西安理工大學(xué)工廠生產(chǎn)的混合式除塵器較好地解決了這一問題。本廠單晶爐系列：TDR262A (B)、TDR280、TDR270A 等多種爐型近百臺(tái)產(chǎn)品都使用這種除塵器。實(shí)踐明，它的主要優(yōu)點(diǎn)是除塵，能適應(yīng)不同抽氣階段真空度的要求，容塵量大。其具體結(jié)構(gòu)見圖2、圖3。該除塵器綜合運(yùn)用離心力、慣性碰撞、接觸阻留、擴(kuò)散這幾種除塵機(jī)理。

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