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單晶爐晶體提拉系統平衡研究\提拉法單晶爐是晶體生長設備中重要的產品系列之一,用此方法單晶生長速度,晶體尺寸,晶體質量,易實現自動控制,因此獲得了廣泛的應用。而此方法生產單晶的主要因素取決于單晶提拉過程的平穩性,因此提拉系統良好的平穩性是提高單晶爐設備性能和生產效率的關鍵。以良好的平穩性為目標,本文對單晶爐提拉系統進行了系統平衡方面的研究。本文介紹了單晶爐提拉系統的功能、結構特點以及工作原理；討論了單晶爐提拉系統靜平衡與動平衡的原理和方法,分析、研究了提拉系統完全平衡的條件,以及提拉系統不平衡校正的方法。
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排氣筒與排氣口相通。上盤的幾個圓孔是除塵區域和排氣區域通道。含塵氣流未從上盤12 個圓孔排出去之前，實際的氣流運動是很復雜的。除切向和軸向運動外還有徑向運動。這樣含塵氣流會反復經過金屬網(支撐內、外層金屬網的金屬桿相互錯列，很明顯能夠增加氣流穿過金屬網的次數)。前文已詳細論過除塵機理,很容易看出慣性碰撞、接觸阻留、篩濾作用、擴散在這時將成為除塵的主要作用力。塵粒與氣流分離界面是內、外兩層金屬網(包括上盤在內)。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，原理編輯，把高純度的多晶硅原料放入高純石英坩堝，通過石墨加熱器產生的高溫將其熔化；然后，對熔化的硅液稍做降溫，使之產生一定的過冷度，再用一根固定在籽晶軸上的硅單晶體（稱作籽晶）插入熔體表面，待籽晶與熔體熔和后，慢慢向上拉籽晶，晶體便會在籽晶下端生長；接著，控制籽晶生長出一段長為100mm左右、直徑為3～5mm的細頸，用于消除高溫溶液對籽晶的強烈熱沖擊而產生的原子排列的位錯，這個過程是引晶；隨后，放大晶體直徑到工藝要求的大小，一般為75～300mm，這個過程稱為放肩；接著，突然提高拉速進行轉肩操作，使肩部近似直角；然后，進入等徑工藝，通過控制熱場溫度和晶體提升速度，生長出一定直徑規格大小的單晶柱體；后，待大部分硅溶液都已經完成結晶時，再將晶體逐漸縮小而形成一個尾形錐體，稱為收尾工藝。這樣一個單晶拉制過程基本完成，進行一定的保溫冷卻后可以取出。
