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DL-78型單晶爐的熱場和減壓工藝\1前言集成電路生產的發展一方面不斷縮小元件尺寸,以提高集成度;另一方面不斷擴大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應地,作為集成電路基礎材料的硅單晶生產也在不斷地提高其技術質量指標和增大單晶錠的直徑和長度,以滿足電路的要求和降低自身的生產成本。在國外市場上,硅晶體直徑大致每4~5年增長1時(25.4mm),相應地,生產投料重也由1公斤逐漸發展為3~5公斤、8~12公斤、15~劉公斤和朋~6O公廳等幾個等級。在這發展中,有兩個條件是相輔相成、共同進步的,這是單晶爐和拉晶工藝。
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