在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：
1. 選擇適合的顆粒大小和穩定劑類型，根據需要進行調配。
2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質量和穩定性，及時更換或補充添加。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。
氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調節劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質。
