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為了當不再繼續加料時，化料器升降驅動裝置更好地驅動導料管20提升不干涉主爐室坩堝21上升的位置，所述導流管20和支撐桿191均呈傾斜狀設置，所述支撐桿191和導流管20的傾斜方向及傾斜角度一致。為了增強外部化料器7的穩固性，所述連接塊194少設置有兩個。為了防止潤滑油脂揮發污染原料，所述絲杠192的外側套裝有可伸縮的防塵罩95，所述防塵罩95為波紋防塵罩。

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單晶硅生長爐的特點HD系列硅單晶爐的爐室采用3節設計。上筒和上蓋可以上升并向兩邊轉動，便于裝料和維護等。爐筒升降支撐采用雙立柱設計，提高穩定性。支撐柱安裝在爐體支撐平臺的上面，便于平臺下面設備的維護。爐筒升降采用絲杠提升技術，簡便干凈。全自動控制系統采用模塊化設計，維護方便，可靠性高，抗干擾性好。雙攝像頭實時采集晶體直徑信息。液面測溫確保下籽晶溫度和可重復性。爐內溫度或加熱功率控制方式可選，保控溫精度。質量流量計控制流量。真空計結合電動蝶閥實時控制爐內真空度。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，一種實用的單晶爐提拉速度控制系統\前言半導體材料是半導體工業的基礎材料 ,在半導體材料中用量和用途廣的是半導體硅。當今 95 %以上的半導體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路。生產集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結晶生長開始時 ,用低速提拉、生長過程均速提拉的辦法制成的。提拉速度的控制性能將直接影響到晶體的質量。當今 ,隨著 IT產業的迅速發展 ,單晶硅生產市場需求劇,研制一種滿足工藝要求、低成本的提拉速度控制系統具有重要的實際意義。