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大直徑硅單晶的制備與數值分析\大直徑硅單晶是微電子工業的基礎材料,廣泛應用于集成電路備件和硅片制造領域,是現今信息社會的基石。根據半導體設備材料產業協會(SEMI)的報告,大直徑硅單晶的需求依然旺盛,450mm硅單晶要繼續開發研究。當前主流集成電路設備用部件急需400mm硅單晶并提出低成本的要求,開發400mm硅單晶和研究晶體制備的工藝過程,無疑具有重要的理論意義和現實需求。同時,開發下一代450mm集成電路用硅晶體、研究外加磁場對改善晶體質量的作用,對于我國未來制造450mm硅片具有重要的戰略意義。藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，進一步提供了一種加料器旋轉驅動裝置的具體結構，所述加料器旋轉驅動裝置包括旋轉電機、旋轉絲桿、旋轉套和固定座，所述旋轉套鉸接在拖板上，所述旋轉絲桿可旋轉地支承在固定座上，所述旋轉電機安裝在固定座上，所述旋轉絲桿的一端部和旋轉電機的輸出軸相連接，所述旋轉絲桿的另一端部和旋轉套通過螺紋連接，所述加料器旋臂鉸接在拖板上，以便通過旋轉電機驅動旋轉絲桿在旋轉套內旋進旋出，使得固定座產生位移，并使固定座帶動加料器旋臂旋轉。進一步為了方便副爐室移動到取晶位，并方便副爐室的拆解、清理，連續拉晶單晶爐還包括副爐室升降驅動裝置和副爐室旋轉驅動裝置，所述所述副爐室通過副爐室旋臂連接在副爐室升降驅動裝置上，以便通過副爐室升降驅動裝置驅動副爐室旋臂升降，并通過副爐室旋臂帶動副爐室升降，所述副爐室旋轉驅動裝置連接在副爐室升降驅動裝置和副爐室旋臂之間，以便使得副爐室旋轉驅動裝置隨副爐室旋臂一起升降，并通過副爐室旋轉驅動裝置驅動副爐室旋臂旋轉，副爐室旋臂又帶動副爐室旋轉。
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具體實施方式、本實施例的直拉式單晶生長爐包括輸入管12、與氬 氣輸入管12相連通的環形氣體分布器11;其特征在于經輸入管12 輸入的氣壓為0. 8 x 10a0. 9 x 10a,流量為30L/min。還包括設于該爐的坩堝支持器14下方和該爐底部的排氣口 13之間 的碗形的氣流導向裝置20;其包括設于氣流導向裝置20底部的中軸 孔2-l、設于所述中軸孔2-1兩側的一對電極孔2-2、以及設于所述中軸孔 2-1兩側并與該爐的排氣口 13相對的通氣孔2-3;該爐的石墨中軸21穿過所述氣流導向裝置20的中軸孔2-1，該爐的一對電極柱15分別穿過所述電 極孔2-2，該爐的排氣口 13與氣流導向裝置20的各通氣孔2-3相連通，氣 流導向裝置20的上端部2-4設于該爐的保溫筒17與發熱體16之間。
