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北京供應(yīng)AOT光催化紫外線消毒設(shè)備紫外線殺菌器廠家

更新時間:2023-02-23 [舉報]

在AOT光催化水體滅菌技術(shù)中,起主要作用的是在反應(yīng)過程中產(chǎn)生的羥基自由基·OH,羥基自由基具有強(qiáng)氧化性、高活性、非選擇性等特點,能夠迅速將微生物等有機(jī)物降解為CO2、H2O和無機(jī)鹽。

AOT 光催化水體滅菌技術(shù),主要利用氧化技術(shù)中產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性的羥基自由基(HydroxylRadical,·OH),將水中絕大部分的污染物和微生物,降解為CO2、H2O和無機(jī)鹽,并且不會產(chǎn)生二次污染,是一種綠色,安全的氧化技術(shù)。在類似于飲用水這種對處理工藝和安全性要求比較高的領(lǐng)域中有著廣闊的應(yīng)用前景 。

AOT紫外線光催化消毒設(shè)備優(yōu)勢:
1、有效殺菌率:紫外線對細(xì)菌、病毒的殺菌使用一般在一至二秒即可達(dá)到99%-99.9%的殺菌率。
2、有效殺菌廣譜性:紫外線殺菌的廣譜性是目前高的,它幾乎對所有的細(xì)菌、病毒都有有效殺滅的效果。
3、無二次污染: 紫外線殺菌無需加入任何化學(xué)藥劑,因此它不會對水體和周圍環(huán)境產(chǎn)生二次污染。不改變水中任何成分

AOT光催化設(shè)備雙波段設(shè)計,可以產(chǎn)生游離電子及空穴,利用空穴的氧化和電子的還原能力,產(chǎn)生氧化能力的自由基(活性羥基、超氧根離子、-COOH、H2O2等),這些自由基可輕易破壞細(xì)菌的細(xì)胞,使細(xì)胞質(zhì)流失,進(jìn)而將細(xì)胞氧化,直接殺死細(xì)菌。而這種特殊的光觸媒材料只是催化反應(yīng),本身的性質(zhì)在反應(yīng)前后不會發(fā)生變化,也沒有任何損耗。

紫外線殺菌消毒是利用適當(dāng)波長的紫外線能夠破壞微生物機(jī)體細(xì)胞中的DNA(脫氧核糖核酸)或RNA(核糖核酸)的分子結(jié)構(gòu),造成生長性細(xì)胞死亡和(或)再生性細(xì)胞死亡,達(dá)到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術(shù)是基于現(xiàn)代防疫學(xué)、醫(yī)學(xué)和光動力學(xué)的基礎(chǔ)上,利用特殊設(shè)計的率、高強(qiáng)度和命的UVC波段紫外光照射流水,將水中各種細(xì)菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。

研究表明,紫外線主要是通過對微生物(細(xì)菌、病毒、芽孢等病原體) 的輻射損傷和破壞核酸的功能使微生物致死,從而達(dá)到消毒的目的。紫外線對核酸的作用可導(dǎo)致鍵和鏈的斷裂、股間交聯(lián)和形成光化產(chǎn)物等,從而改變了DNA的生物活性,使微生物自身不能復(fù)制,這種紫外線損傷也是致死性損傷。

紫外線系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)學(xué)決定于以下因素:設(shè)備造價和壽命;電效率;運行中殺菌效果的降低程度;電費等。對于紫外線消毒系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)分析尚未做出定論,有很多結(jié)論不同的分析報道,有觀點認(rèn)為紫外線殺菌裝置電耗大,設(shè)備維護(hù)費和造價較高。對于大系統(tǒng),設(shè)備投資比臭氧系統(tǒng)高,運行費用與臭氧相仿;但對于純凈水制造的小型系統(tǒng)投資較臭氧裝置為低。也有觀點認(rèn)為對于數(shù)千噸/日以上的處理規(guī)模,紫外線消毒系統(tǒng)的投資和運行成本很具優(yōu)勢,要比加氯和臭氧消毒的花費都低得多。例如有分析資料報道,在建造人口數(shù)為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時,紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費用的近似比例為1:4:(8~9),對于人口數(shù)大于500000的社會團(tuán)體,費用比約為1:2.5:2.5。

大多數(shù)紫外線裝置利用傳統(tǒng)的低壓紫外燈技術(shù),也有一些大型水廠采用低壓高強(qiáng)度紫外燈系統(tǒng)和中壓高強(qiáng)度紫外燈系統(tǒng),由于產(chǎn)生高強(qiáng)度的紫外線可能使燈管數(shù)量減少90%以上,從而縮小了占地面積,節(jié)約了安裝和維修費用,并且使紫外線消毒法對水質(zhì)較差的出水也適用。

使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式:好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射,也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時間:不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同,用紫外線消毒時使用照射劑量達(dá)到殺滅目標(biāo)微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細(xì)菌繁殖體時,應(yīng)使照射劑量達(dá)到 10000 uW.s/CM2;殺滅細(xì)菌芽胞時應(yīng)達(dá)到100000 uW.s/CM2;病毒對紫外線的抵抗力介于細(xì)菌繁殖體和芽胞之間;真菌抱子的抵抗力比細(xì)菌芽胞更強(qiáng),有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2;在消毒的目標(biāo)微生物不詳時,照射劑量不應(yīng)低于100000 uW.s/CM2。

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